uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Metal-organic chemical vapor deposition of TiO2 on silicon substrates using titanium (IV)isopropoxide: Surface chemistry and interfacial properties
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Fysiska sektionen, Fysiska institutionen. Institutionen för fysik och materialvetenskap, Fysik I. Fysik 1.
Vise andre og tillknytning
2005 (engelsk)Inngår i: ICTF 13/ACSIN 8, 2005Konferansepaper, Publicerat paper (Annet (populærvitenskap, debatt, mm))
sted, utgiver, år, opplag, sider
2005.
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-24085OAI: oai:DiVA.org:uu-24085DiVA, id: diva2:51859
Tilgjengelig fra: 2007-02-02 Laget: 2007-02-02

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 458 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf