uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Hollow Cathode and Hybride Plasma Processing
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
2005 (engelsk)Inngår i: Proc of the 8th Int Symp on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2005), Kanazawa, Japan, June, PP1-3, 2005, s. p. 234-238Konferansepaper, Publicerat paper (Annet vitenskapelig)
sted, utgiver, år, opplag, sider
2005. s. p. 234-238
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-77000OAI: oai:DiVA.org:uu-77000DiVA, id: diva2:104912
Tilgjengelig fra: 2006-03-10 Laget: 2006-03-10

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Barankova, HanaBardos, Ladislav

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Barankova, HanaBardos, Ladislav
Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 961 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf