uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Modeling of the deposition of stoichiometric Al2O3 using nonarcing direct current magnetron sputtering
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Vise andre og tillknytning
1998 (engelsk)Inngår i: J Vac Sci Technol A, Vol. 16, nr 3, s. 1286-1292Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
1998. Vol. 16, nr 3, s. 1286-1292
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-10185OAI: oai:DiVA.org:uu-10185DiVA, id: diva2:37953
Tilgjengelig fra: 2007-03-02 Laget: 2007-03-02 Sist oppdatert: 2011-01-14

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Nyberg, TomasBerg, Sören

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Nyberg, TomasBerg, Sören
Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 747 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf