uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Atomic layer chemical vapour deposition in the Bi-Ti-O system
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Kemiska sektionen, Kemiska institutionen. Institutionen för materialkemi, Oorganisk kemi.
Institutionen för materialkemi, Oorganisk kemi.
Institutionen för materialkemi, Oorganisk kemi.
Institutionen för materialkemi, Oorganisk kemi. oorganisk kemi.
Vise andre og tillknytning
2000 (engelsk)Inngår i: Chem. Vap. Deposition, Vol. 6, s. 139-Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
2000. Vol. 6, s. 139-
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-39238OAI: oai:DiVA.org:uu-39238DiVA, id: diva2:67137
Tilgjengelig fra: 2008-09-24 Laget: 2008-09-24 Sist oppdatert: 2011-01-14

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Hårsta, Anders

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Hårsta, Anders
Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 776 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf