Logo: to the web site of Uppsala University

uu.sePublikasjoner fra Uppsala universitet
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Low pressure rf plasma jet - a new tool for surface processing
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
1992 (engelsk)Inngår i: Surface and coatings Technology, Vol. 54-55, s. 91-95Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
1992. Vol. 54-55, s. 91-95
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-258672OAI: oai:DiVA.org:uu-258672DiVA, id: diva2:842230
Konferanse
ICMCTF-92, San Diego, CA, USA
Tilgjengelig fra: 2015-07-17 Laget: 2015-07-17 Sist oppdatert: 2015-07-17

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 739 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf