Logotyp: till Uppsala universitets webbplats

uu.sePublikationer från Uppsala universitet
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Enhanced diffusion caused by surface reactions in thin films of Sn–Cu–Mn
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Fysiska sektionen, Institutionen för fysik och astronomi, Materialfysik.
Kyiv Polytechnic Institute.
Kyiv Polytechnic Institute.
University of Debrecen.
Visa övriga samt affilieringar
2014 (Engelska)Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 550, s. 723-731Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

This paper describes an investigation of low-temperature diffusion in thin films of Sn/Cu, Cu/Mn and Sn/Cu/Mn. The combination of Rutherford backscattering spectroscopy, grazing incidence X-ray diffraction and Auger electron spectroscopy has been used to provide information about the concentration distribution of components and the depth of the various phases and interfaces. The results show that processes that occur on a free surface of thin films can stimulate diffusion of elements in the bulk. It is shown that the element with higher affinity to oxygen tends to move to the surface in order to oxidize and that this oxidation process provides a driving force for further diffusion. Introduction of a third layer to a bilayer system may lead to changes in the surface topography caused by the reactive diffusion between upper layers and it causes the development of fast, ‘short-circuit’ diffusion paths and so increases the diffusion of elements from the bottom to the top. Reactive diffusion between Sn and Cu in the top layers leads to significant changes at the surface with features of the size of 10 to 20 nmappearing. These changes provide shortcuts for the diffusion of Mn atoms from the bottom layer to the free surface. As a consequence of these processes, the sequence of layers of different elements in thin-film structures alters diffusionand results in different sample properties.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2014. Vol. 550, s. 723-731
Nyckelord [en]
Oxidation, Diffusion, Topography, Surface
Nationell ämneskategori
Den kondenserade materiens fysik
Forskningsämne
Fysik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-213178DOI: 10.1016/j.tsf.2013.10.143ISI: 000328499700114OAI: oai:DiVA.org:uu-213178DiVA, id: diva2:681047
Projekt
Swedish Institute 00699/2009Tillgänglig från: 2013-12-19 Skapad: 2013-12-19 Senast uppdaterad: 2017-12-06Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Enhanced_diffusion_Oleskevych_et_al_2014(1425 kB)654 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 1425 kBChecksumma SHA-512
b56acb2937c0f0ee733fea937b05cbd0f178df6b849f56a925ec481b747abede1a753ca977d3fab39d35d468f35b6d439cbae7ea678aa187010df80bc189ca63
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Person

Rennie, Adrian

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Rennie, Adrian
Av organisationen
Materialfysik
I samma tidskrift
Thin Solid Films
Den kondenserade materiens fysik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 659 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 775 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf