Logotyp: till Uppsala universitets webbplats

uu.sePublikationer från Uppsala universitet
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Low pressure rf plasma jet - a new tool for surface processing
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
1992 (Engelska)Ingår i: Surface and coatings Technology, Vol. 54-55, s. 91-95Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
1992. Vol. 54-55, s. 91-95
Nationell ämneskategori
Teknik och teknologier
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-258672OAI: oai:DiVA.org:uu-258672DiVA, id: diva2:842230
Konferens
ICMCTF-92, San Diego, CA, USA
Tillgänglig från: 2015-07-17 Skapad: 2015-07-17 Senast uppdaterad: 2015-07-17

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Av organisationen
Fasta tillståndets elektronik
Teknik och teknologier

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 739 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf