uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Linear arc discharge (LAD): A new type of hollow cathode plasma source
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
1996 (Engelska)Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 87-8, nr 1-3, s. 377-380Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

A novel linearly scalable source for low pressure plasma processing is described. The source is based on a parallel plate hot hollow cathode in a focusing magnetic field which allows generation of a linearly uniform plasma in a gas admitted into the slit

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
1996. Vol. 87-8, nr 1-3, s. 377-380
Nyckelord [en]
linear are discharge; plasma processing; hollow cathode source; INTERNAL WALLS; TIN FILMS; DEPOSITION; VAPOR; TUBES
Nationell ämneskategori
Annan elektroteknik och elektronik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-84716OAI: oai:DiVA.org:uu-84716DiVA, id: diva2:112624
Anmärkning
Addresses: Barankova H, UNIV UPPSALA, ANGSTROM CONSORTIUM THIN FILM PROC, BOX 534, S-75121 UPPSALA, SWEDEN.Tillgänglig från: 2007-03-05 Skapad: 2007-03-05 Senast uppdaterad: 2011-01-15

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Personposter BETA

Barankova, HanaBardos, LadislavBerg, Sören

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Barankova, HanaBardos, LadislavBerg, Sören
Av organisationen
Institutionen för materialvetenskapElektronik
Annan elektroteknik och elektronik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 991 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf