uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Experimental investigation of the electrical properties of atomic layer deposited hafnium-rich silicate films on n-type silicon
Visa övriga samt affilieringar
2006 (Engelska)Ingår i: Journal of Applied Physics, ISSN 0021-8979, E-ISSN 1089-7550, Vol. 100, nr 9, s. 094107-Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

This work examines the structural and electrical properties of HfSixOy film based metal-insulator-semiconductor capacitors by means of x-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, capacitance-voltage (C-V), deep level transient spectroscopy, and conductance transient (G-t) techniques. Hafnium-rich silicate films were atomic layer deposited onto HF-etched or SiO2 covered silicon. Although as-deposited samples exhibit high interfacial state and disorder-induced gap state densities, a postdeposition thermal annealing in vacuum under N2 flow for 1 min at temperatures between 600 and 730 °C clearly improves the interface quality. Marked crystallization and phase separation occurred at 800 °C, increasing the structural heterogeneity and defect density in the dielectric oxide layers.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2006. Vol. 100, nr 9, s. 094107-
Nationell ämneskategori
Oorganisk kemi
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-18759DOI: 10.1063/1.2358831ISI: 000242041500076OAI: oai:DiVA.org:uu-18759DiVA, id: diva2:46531
Tillgänglig från: 2006-11-22 Skapad: 2006-11-22 Senast uppdaterad: 2017-12-08Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Rooth, MårtenWilhelmsson, OlaHårsta, Anders

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Rooth, MårtenWilhelmsson, OlaHårsta, Anders
Av organisationen
Oorganisk kemi
I samma tidskrift
Journal of Applied Physics
Oorganisk kemi

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 456 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf