uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Effect of the gas and cathode material on the rf hollow cathode performance
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
1998 (Engelska)Ingår i: Paper at The 193rd Meet.of the Elecctrochem. Soc., San Diego, May, Ext.abstract 203. Proc. Vol. 98-1.The Electrochem. Soc., Inc, 1998, s. 203-Konferensbidrag, Publicerat paper (Refereegranskat)
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
1998. s. 203-
Nationell ämneskategori
Annan elektroteknik och elektronik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-40409OAI: oai:DiVA.org:uu-40409DiVA, id: diva2:68310
Tillgänglig från: 2007-03-01 Skapad: 2007-03-01

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Personposter BETA

Barankova, HanaBardos, Ladislav

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Barankova, HanaBardos, Ladislav
Av organisationen
Institutionen för materialvetenskapElektronik
Annan elektroteknik och elektronik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 801 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf