uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Kemiska sektionen, Institutionen för materialkemi. oorganisk kemi.
Visa övriga samt affilieringar
2002 (Engelska)Ingår i: Thin Solid Films, Vol. 418, s. 69-72Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2002. Vol. 418, s. 69-72
Nationell ämneskategori
Oorganisk kemi
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-42460OAI: oai:DiVA.org:uu-42460DiVA, id: diva2:70362
Tillgänglig från: 2008-09-22 Skapad: 2008-09-22 Senast uppdaterad: 2011-01-13

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Personposter BETA

Hårsta, Anders

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Hårsta, Anders
Av organisationen
Institutionen för materialkemi
Oorganisk kemi

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 1277 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf