uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Na0.5K0.5NbO3 thin films for MFIS_FET type Non-Volatile Memory Applications.
Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Kemiska sektionen, Institutionen för materialkemi. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Kemiska sektionen, Institutionen för materialkemi, Oorganisk kemi. oorganisk kemi.
Vise andre og tillknytning
2002 (engelsk)Inngår i: Integrated Ferroelectrics, Vol. 49, s. 21-30Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
2002. Vol. 49, s. 21-30
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:uu:diva-43856OAI: oai:DiVA.org:uu-43856DiVA, id: diva2:71761
Tilgjengelig fra: 2005-11-21 Laget: 2005-11-21 Sist oppdatert: 2011-01-13

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Hårsta, Anders

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Hårsta, Anders
Av organisasjonen

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 432 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf