uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
1234567 1 - 50 av 488
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 1. Aldaeus, F
    et al.
    Johansson, L E
    Jönsson, Mats
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Jonsson, G
    Lindberg, Ulf
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Roerade, J
    Hamp, S
    Escherica Coli Behavior in an Open Dielectrophoretic Microsystem2004Ingår i: 4th Workshop on Nanochemistry and Nanotechnology, 25-27 Aug, 2004Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 2.
    Andersson, Joakim
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Fysiska sektionen, Fysiska institutionen. Institutionen för fysik och materialvetenskap, Fysik II. Materialvetenskap. Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fysik II.
    Forsberg, Markus
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för fysik och materialvetenskap, Fysik II. Materialvetenskap. Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollman, Patrik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för fysik och materialvetenskap, Fysik II. Materialvetenskap. Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Materialvetenskap.
    Jacobson, Staffan
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för fysik och materialvetenskap, Fysik II. Materialvetenskap. Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Materialvetenskap.
    A geometrically defined all-diamond pad conditioner2005Ingår i: World Tribology Congress III, Washington., 2005Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 3.
    Ankarcrona, Johan
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    High Frequency Analysis of LDMOS Transistors2004Licentiatavhandling, monografi (Övrigt vetenskapligt)
  • 4.
    Ankarcrona, Johan
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Olsson, Jörgen
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    SPICE Modeling of High Voltage LDMOS Transistors2001Ingår i: The 19th Nordic Semiconductor Meeting, Copenhagen, Denmark, May, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 5. Baker, A.M.
    et al.
    Köhler, Johan
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. ÅSTC.
    Mistry, S
    Lecuyot, A
    Liddle, D
    Miniaturised propulsion & navigation systems for orbit control of low cost space missions2005Ingår i: 5th Round Table on Micro/Nano Technologies for Space, Oct 3-5, Noordwijk NL, 2005Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 6. Bakke, T
    et al.
    Köhler, Johan
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. ÅSTC. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik.
    Bäcklund, Ylva
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Fasta tillståndets elektronik. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik.
    Mukherjee, S
    Silicon semi-circular tapered structures made by diffusion limited HF:HNO3 wet etching1998Ingår i: Micromechanics Europe 1988, MME'98, Ulvik Norge, 1998Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 7.
    Barankova, H
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, L
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    High-rate hot hollow cathode arc deposition of chromium and chromium nitride films2004Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 188-189, s. 703-707Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 8.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold atmospheric plasma sources2002Ingår i: INVITED PAPER, ANZIO 2002, 5th Symp.Europ.Vac.Coaters, September 30, Rome-Anzio, Italy, abstract only, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 9.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold atmospheric plasma sources based on hollow cathodes2002Ingår i: INVITED presentation at 1st Topical Meeting on Pulsed and Atmospheric Pressure Plasma Processing, FMT - Forschungszentrum für Mikrostrukturtechnik, Univestity of Wuppertal, Wuppertal, March 2002, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 10.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold Atmospheric Plasma Sources for Surface Treatment2003Ingår i: The 46th Annual Tech Conf of the Society of acuum Coaters (SVC), San Francisco, May 2003, Invited talk P-1, 2003, s. 427-430Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 11.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of gas and cathode material on the r.f. hollow cathode reactive PVD1999Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 121, s. 704-708Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The process of generation of the radio frequency (r.f.) hollow cathode discharge was examined for different gases and different materials of the r.f. electrode. The delivered r.f. power range used in the experiments enabled analysis of the hollow cathode

  • 12.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of magnetic field configuration on the performance of hollow cathode linear arc discharge (LAD) source1998Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-98, San Diego, Paper G.3-7, 1998Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 13.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of the gas and cathode material on the rf hollow cathode performance1998Ingår i: Paper at The 193rd Meet.of the Elecctrochem. Soc., San Diego, May, Ext.abstract 203. Proc. Vol. 98-1.The Electrochem. Soc., Inc, 1998, s. 203-Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 14.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma2000Ingår i: Appl Phys Letters, Vol. 76, nr 3, s. 285-287Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 15.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma cource for gas treatment2002Ingår i: Catalysis Today, Vol. 72, s. 237-241Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 16.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma in monoatomic and molecular gases2002Ingår i: Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, 202nd Meeting of The Electrochemical Society, Salt Lake City, October, abstract No. 458, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 17.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma source2001Ingår i: 1st Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, The Electrochemical Society Spring Meeting, Washington, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 18.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    High Density Plasma PVD of CrN Films2004Ingår i: 6th Symp European Vacuum Coaters, September 2004, Rome-Anzio, Italy, 2004, s. Invited paper-Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 19.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode and Hybride Plasma Processing2005Ingår i: Proc of the 8th Int Symp on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2005), Kanazawa, Japan, June, PP1-3, 2005, s. p. 234-238Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 20.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode and Hybride Plasma Processing2006Ingår i: Vacuum 80 (2006) 688-692., s. 688-692Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 21.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface treatment2003Ingår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 174-175, s. 63-67Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 22.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface treatment2002Ingår i: , 8th International Conference on Plasma Surfaced Engineering - PSE 2002, Garmisch-Partenkirchen, September, Keynote lecture K8, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 23.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2003Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 163-164, s. 649-653Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 24.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2002Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-02, April, San Diego, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 25.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Ingår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 26.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Ingår i: Proceedings of the 45th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Orlando, April 2002, www.svc.org., Proc, 2002, s. 109-112Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 27.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Ingår i: Invited paper at Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-01, San Diego, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 28.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 146-147, s. 486-490Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 29.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New hybrid source of cold atmospheric plasma2004Ingår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 177-178, s. 688-692Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 30.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New hybrid source of cold atmospheric plasma2003Ingår i: ICMCTF´03, San Diego, April, 2003Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 31.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New Plasma Sources for PE CVD2003Ingår i: Invited paper, 1st Int Symposium on Design and Technology of Coatings, Bonassola, Italy September 24-26, Proc ed by E Olzi and R Molena, ISBN 88-8080-046-9, 2003Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 32.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Abnormal High Rate Deposition of TiN Films by the Radio Frequency Plasma Jet System1995Ingår i: J Electrochem Soc, ISSN 0013-4651, Vol. 142, nr 3, s. 883-887Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Radio frequency Ar and Ar + N-2 plasma jets generated in a hollow electrode terminated by a small size Ti nozzle were used for deposition of Ti and TiN films. The regime with low content of reactive gas resulted in an extreme enhancement of TiN deposition

  • 33.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the linear arc discharge (LAD) source for film deposition1997Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 94-5, nr 1-3, s. 578-582Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The linear arc discharge (LAD) source is a parallel plate hollow cathode with a magnetic field perpendicular to the plates near the outlet slit of the cathode. The hollers cathode discharge is generated by radio frequency (rf) power and is confined mainly

  • 34.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Metastable assisted deposition of TiN films1995Ingår i: Appl Phys Lett, ISSN 0003-6951, Vol. 67, nr 11, s. 1521-1523Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    An excess heat from an exothermic reaction of metastable Ar (4(3)P(0)) and Ar (4(3)P(2)) atoms with N-2 molecules at low contents of N-2 in Ar was found to be responsible for an enhanced thermionic emission, an enhanced production of Ti target vapor, an i

  • 35.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    The radio frequency hollow cathode plasma jet arc for the film deposition1996Ingår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, ISSN 0734-2101, Vol. 14, nr 6, s. 3033-3038Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) are discharge is studied for an activated reactive deposition of TiN films. The presence of low content of nitrogen in argon enables reaching the are regime at lower powers than in pure argon. T

  • 36.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Titanium nitride deposited by high rate rf hollow cathode plasma jet reactive process1995Ingår i: VACUUM, ISSN 0042-207X, Vol. 46, nr 12, s. 1433-1438Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) with a tubular Ti nozzle as a source of metal particles was used for the reactive deposition of TiN. The results of optical emission spectroscopy (OES), temperature measurements at the active zone

  • 37.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot hollow cathode diffuse arc deposition of chromium nitride films2005Ingår i: J Vac Sci Technol, Vol. A23, nr 4, s. 959-963Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 38.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot Hollow Cathode Diffuse Arc Deposition of Chromium Nitride Films2004Ingår i: American Vacuum Society 51st Int Meeting, Anaheim,USA, November, 2004Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 39.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Nender, Claes
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Linear arc discharge (LAD): A new type of hollow cathode plasma source1996Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 87-8, nr 1-3, s. 377-380Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A novel linearly scalable source for low pressure plasma processing is described. The source is based on a parallel plate hot hollow cathode in a focusing magnetic field which allows generation of a linearly uniform plasma in a gas admitted into the slit

  • 40.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold Atmospheric Plasma in Nitrogen and Air Generated by the Hybrid Plasma Source2005Ingår i: AVS 52nd Int. Meeting, Boston, October-November 2005, Paper PS-WeA3., 2005Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 41.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstpndets elektronik.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hybrid Atmospheric Plasma in Molecular Gas2006Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 42.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Carlsson, Patrik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Nender, Claes
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hysteresis effects in the sputtering process using two reactive gases1995Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, Vol. 260, nr 2, s. 181-186Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The reactive sputtering process involving two reactive gases has been investigated. Sputtering titanium in the presence of oxygen and nitrogen in argon was studied by means of optical emission and mass spectrometries. The experiments reveal the mechanism

  • 43.
    Bardos, L
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, H
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot Hollow Cathode Arc Deposition of Highly Oriented Chromium and Chromium Nitride Films2004Ingår i: Proc of the 47th Annual Tech Conf of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Dallas, USA, April 2004, 2004, s. Paper E-3, p. 91Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 44.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Radio frequency hollow cathodes for the plasma processing technology1996Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 86-87, nr 1-3, s. 648-656Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The present paper summarizes the main features of the hollow cathode discharges generated by a radio frequency (r.f.) instead of a d.c. held. The pressure of gas inside the hollow cathode is almost independent on the reactor pressure, which allows to gene

  • 45.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Atmospheric Plasma – Yes or No2006Ingår i: Bulletin, Publication of the Vacuum Coating Industry, Summer 2006, 42-48., s. 42-48Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 46.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the Cold Atmospheric Plasma Hybrid Source2005Ingår i: J Vac Sci Technol, Vol. A23, nr 4, s. 933-937Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 47.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the Cold Atmospheric Plasma Hybrid Source2004Ingår i: American Vacuum Society 51st Int Meeting, Anaheim, November, 2004, s. Paper PS-ThM4Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 48.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Comparison of the radio frequency hollow cathode to the microwave antenna discharge for plasma processing2001Ingår i: J Appl Phys, Vol. 90, nr 4, s. 1703-1709Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 49.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly oriented coatings at low substrate temperatures2002Ingår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 50.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly Oriented Coatings at Low Substrate Temperatures2001Ingår i: Proceedings of the 44th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Philadelphia, April, Proc., 2001, s. 125-129Konferensbidrag (Refereegranskat)
1234567 1 - 50 av 488
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf