uu.seUppsala universitets publikasjoner
Endre søk
Begrens søket
123 1 - 50 of 121
RefereraExporteraLink til resultatlisten
Permanent link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Treff pr side
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Forfatter A-Ø
  • Forfatter Ø-A
  • Tittel A-Ø
  • Tittel Ø-A
  • Type publikasjon A-Ø
  • Type publikasjon Ø-A
  • Eldste først
  • Nyeste først
  • Skapad (Eldste først)
  • Skapad (Nyeste først)
  • Senast uppdaterad (Eldste først)
  • Senast uppdaterad (Nyeste først)
  • Disputationsdatum (tidligste først)
  • Disputationsdatum (siste først)
  • Standard (Relevans)
  • Forfatter A-Ø
  • Forfatter Ø-A
  • Tittel A-Ø
  • Tittel Ø-A
  • Type publikasjon A-Ø
  • Type publikasjon Ø-A
  • Eldste først
  • Nyeste først
  • Skapad (Eldste først)
  • Skapad (Nyeste først)
  • Senast uppdaterad (Eldste først)
  • Senast uppdaterad (Nyeste først)
  • Disputationsdatum (tidligste først)
  • Disputationsdatum (siste først)
Merk
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 1.
    Barankova, H
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, L
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    High-rate hot hollow cathode arc deposition of chromium and chromium nitride films2004Inngår i: Surf Coat Technol, Vol. 188-189, s. 703-707Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 2.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Atmospheric Plasma Technology for Coating2007Inngår i: 50 Years of Vacuum Coating Technology and the Growth of the Society of Vacuum Coaters / [ed] Donald M. Mattox and Vivienne Harwood Mattox, Society of Vacuum Coaters, Albuquerque, NM , 2007, , s. Chap. 19s. 141-146Kapittel i bok, del av antologi (Annet vitenskapelig)
  • 3.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold atmospheric plasma sources2002Inngår i: INVITED PAPER, ANZIO 2002, 5th Symp.Europ.Vac.Coaters, September 30, Rome-Anzio, Italy, abstract only, 2002Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 4.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold atmospheric plasma sources based on hollow cathodes2002Inngår i: INVITED presentation at 1st Topical Meeting on Pulsed and Atmospheric Pressure Plasma Processing, FMT - Forschungszentrum für Mikrostrukturtechnik, Univestity of Wuppertal, Wuppertal, March 2002, 2002Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 5.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold Atmospheric Plasma Sources for Surface Treatment2003Inngår i: The 46th Annual Tech Conf of the Society of acuum Coaters (SVC), San Francisco, May 2003, Invited talk P-1, 2003, s. 427-430Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 6.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Comparison of pulsed dc and rf hollow cathode depositions of Cr and CrN films2011Inngår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 205, nr 17-18, s. 4169-4176Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    A cylindrical chromium hollow cathode powered by a pulsed dc generator working in a constant power mode was used for PVD of chromium and chromium nitride films on silicon substrates in argon and nitrogen plasmas, respectively. A comparison of the pulsed dc process with the radio frequency hollow cathode depositions of Cr and CrN films at identical power levels shows considerable differences particularly in the deposition rate of Cr films. At the pulsed power above 250 W the hot cathode/diffuse arc regimes were reached with the cathode outlet temperature as high as 1300 degrees C and the maximum deposition rates of both Cr and CrN films exceeded 1 mu m/min. The resulting film properties, e.g. the microstructure and morphology were studied and compared with the films obtained by the rf hollow cathode PVD.

  • 7.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Deposition using the Magnetized Hollow Cathode Activated Magnetron2018Konferansepaper (Annet vitenskapelig)
  • 8.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of gas and cathode material on the r.f. hollow cathode reactive PVD1999Inngår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 121, s. 704-708Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    The process of generation of the radio frequency (r.f.) hollow cathode discharge was examined for different gases and different materials of the r.f. electrode. The delivered r.f. power range used in the experiments enabled analysis of the hollow cathode

  • 9.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of magnetic field configuration on the performance of hollow cathode linear arc discharge (LAD) source1998Inngår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-98, San Diego, Paper G.3-7, 1998Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 10.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of the gas and cathode material on the rf hollow cathode performance1998Inngår i: Paper at The 193rd Meet.of the Elecctrochem. Soc., San Diego, May, Ext.abstract 203. Proc. Vol. 98-1.The Electrochem. Soc., Inc, 1998, s. 203-Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 11.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma2000Inngår i: Appl Phys Letters, Vol. 76, nr 3, s. 285-287Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 12.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma cource for gas treatment2002Inngår i: Catalysis Today, Vol. 72, s. 237-241Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 13.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma in monoatomic and molecular gases2002Inngår i: Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, 202nd Meeting of The Electrochemical Society, Salt Lake City, October, abstract No. 458, 2002Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 14.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma source2001Inngår i: 1st Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, The Electrochemical Society Spring Meeting, Washington, 2001Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 15.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    High Density Plasma PVD of CrN Films2004Inngår i: 6th Symp European Vacuum Coaters, September 2004, Rome-Anzio, Italy, 2004, s. Invited paper-Konferansepaper (Annet vitenskapelig)
  • 16.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Hollow Cathode and Hybrid Atmospheric Plasma Sources2007Inngår i: Proceedings of the: PLENARY PAPER, 2007Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 17.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode and Hybride Plasma Processing2005Inngår i: Proc of the 8th Int Symp on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2005), Kanazawa, Japan, June, PP1-3, 2005, s. p. 234-238Konferansepaper (Annet vitenskapelig)
  • 18.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode and Hybride Plasma Processing2006Inngår i: Vacuum 80 (2006) 688-692., s. 688-692Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 19.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface treatment2003Inngår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 174-175, s. 63-67Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 20.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface treatment2002Inngår i: , 8th International Conference on Plasma Surfaced Engineering - PSE 2002, Garmisch-Partenkirchen, September, Keynote lecture K8, 2002Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 21.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2003Inngår i: Surf Coat Technol, Vol. 163-164, s. 649-653Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 22.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2002Inngår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-02, April, San Diego, 2002Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 23.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Inngår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 24.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Inngår i: Proceedings of the 45th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Orlando, April 2002, www.svc.org., Proc, 2002, s. 109-112Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 25.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Inngår i: Invited paper at Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-01, San Diego, 2001Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 26.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Inngår i: Surf Coat Technol, Vol. 146-147, s. 486-490Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 27.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New hybrid source of cold atmospheric plasma2004Inngår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 177-178, s. 688-692Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 28.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New hybrid source of cold atmospheric plasma2003Inngår i: ICMCTF´03, San Diego, April, 2003Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 29.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New Plasma Sources for PE CVD2003Inngår i: Invited paper, 1st Int Symposium on Design and Technology of Coatings, Bonassola, Italy September 24-26, Proc ed by E Olzi and R Molena, ISBN 88-8080-046-9, 2003Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 30.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Pulsed Atmospheric Pressure Plasma Reforming Of Ethanol2016Inngår i: Hakone XV: International Symposium On High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry: With Joint Cost TD1208 Workshop: Non-Equilibrium Plasmas With Liquids For Water And Surface Treatment / [ed] Cernak, M; Hoder, T, 2016, s. 380-381Konferansepaper (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    The plasma source with a coaxial geometry was used for generation of plasma inside water and the ethanol-water mixtures. The hydrogen-rich synthesis gas with hydrogen content up to 60% was produced in submerged dc pulsed plasma. The effect of various plasma generation regimes on the performance of plasma, on the hydrogen production efficiency and on the reaction rise-time was examined. A role of the solution temperature, composition of the mixture and current delivered to the discharge are investigated.

  • 31.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Pulsed DC Hollow Cathode Deposition of Cr and CrN Films2007Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 32.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Special issue on atmospheric pressure plasma2013Inngår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 234, s. 1-1Artikkel i tidsskrift (Annet vitenskapelig)
  • 33.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Bardos, A.
    BB Plasma Design AB, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Magnetized hollow cathode activated magnetron2015Inngår i: Applied Physics Letters, ISSN 0003-6951, E-ISSN 1077-3118, Vol. 107, nr 15, artikkel-id 153501Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    Planar magnetron in which the target is coupled with a magnetized hollow cathode is presented. Detailed principles of such arrangements are explained. The hollow cathode activated magnetron produces intense and stable plasmas in a wider interval of the working gas pressures as compared to the conventional magnetrons at the same power. The developed arrangements enhance sputtering from the magnetron target by the high-density hollow cathode plasma and increase the number of sputtered/evaporated species. Results of the test experiments of these arrangements on a commercial planar magnetron with the Ti target are presented and their capabilities discussed.

  • 34.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Abnormal High Rate Deposition of TiN Films by the Radio Frequency Plasma Jet System1995Inngår i: J Electrochem Soc, ISSN 0013-4651, Vol. 142, nr 3, s. 883-887Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    Radio frequency Ar and Ar + N-2 plasma jets generated in a hollow electrode terminated by a small size Ti nozzle were used for deposition of Ti and TiN films. The regime with low content of reactive gas resulted in an extreme enhancement of TiN deposition

  • 35.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the linear arc discharge (LAD) source for film deposition1997Inngår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 94-5, nr 1-3, s. 578-582Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    The linear arc discharge (LAD) source is a parallel plate hollow cathode with a magnetic field perpendicular to the plates near the outlet slit of the cathode. The hollers cathode discharge is generated by radio frequency (rf) power and is confined mainly

  • 36.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Metastable assisted deposition of TiN films1995Inngår i: Appl Phys Lett, ISSN 0003-6951, Vol. 67, nr 11, s. 1521-1523Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    An excess heat from an exothermic reaction of metastable Ar (4(3)P(0)) and Ar (4(3)P(2)) atoms with N-2 molecules at low contents of N-2 in Ar was found to be responsible for an enhanced thermionic emission, an enhanced production of Ti target vapor, an i

  • 37.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    The radio frequency hollow cathode plasma jet arc for the film deposition1996Inngår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, ISSN 0734-2101, Vol. 14, nr 6, s. 3033-3038Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    The radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) are discharge is studied for an activated reactive deposition of TiN films. The presence of low content of nitrogen in argon enables reaching the are regime at lower powers than in pure argon. T

  • 38.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Titanium nitride deposited by high rate rf hollow cathode plasma jet reactive process1995Inngår i: VACUUM, ISSN 0042-207X, Vol. 46, nr 12, s. 1433-1438Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    A radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) with a tubular Ti nozzle as a source of metal particles was used for the reactive deposition of TiN. The results of optical emission spectroscopy (OES), temperature measurements at the active zone

  • 39.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Adela
    Reactive Deposition by Magnetron with Magnetized Hollow Cathode Enhanced Target2018Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 40.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot hollow cathode diffuse arc deposition of chromium nitride films2005Inngår i: J Vac Sci Technol, Vol. A23, nr 4, s. 959-963Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 41.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot Hollow Cathode Diffuse Arc Deposition of Chromium Nitride Films2004Inngår i: American Vacuum Society 51st Int Meeting, Anaheim,USA, November, 2004Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 42.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Nender, Claes
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Linear arc discharge (LAD): A new type of hollow cathode plasma source1996Inngår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 87-8, nr 1-3, s. 377-380Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    A novel linearly scalable source for low pressure plasma processing is described. The source is based on a parallel plate hot hollow cathode in a focusing magnetic field which allows generation of a linearly uniform plasma in a gas admitted into the slit

  • 43.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Silins, Kaspars
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Amorphous Carbon Films on Glass Prepared by Hollow Cathodes at Moderate Pressure2016Inngår i: ECS Journal of Solid State Science and Technology, ISSN 2162-8769, E-ISSN 2162-8777, Vol. 5, nr 9, s. N57-N60Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 44.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Uppsala, Sweden.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Uppsala, Sweden.
    Silins, Kaspars
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, A.
    BB Plasma Design AB.
    Reactive Deposition of TiN Films by Magnetron with Magnetized Hollow Cathode Enhanced Target2018Inngår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 152, s. 123-127Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    Magnetized Hollow Cathode Activated Magnetron in which the target is coupled with the hollow cathode magnetized by the magnetic field of the magnetron was tested in the reactive process of TiN deposition. Increased deposition rate compared to the Ti metal deposition rate was confirmed. The depositions as well as optical measurements were performed at several pressures in the reactor. The results of the TiN reactive deposition are presented and discussed, including the TiN deposition in pure nitrogen.

  • 45.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Cold Atmospheric Plasma in Nitrogen and Air Generated by the Hybrid Plasma Source2005Inngår i: AVS 52nd Int. Meeting, Boston, October-November 2005, Paper PS-WeA3., 2005Konferansepaper (Annet vitenskapelig)
  • 46.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstpndets elektronik.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hybrid Atmospheric Plasma in Molecular Gas2006Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 47.
    Bardos, L
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, H
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hot Hollow Cathode Arc Deposition of Highly Oriented Chromium and Chromium Nitride Films2004Inngår i: Proc of the 47th Annual Tech Conf of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Dallas, USA, April 2004, 2004, s. Paper E-3, p. 91Konferansepaper (Fagfellevurdert)
  • 48.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Radio frequency hollow cathodes for the plasma processing technology1996Inngår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 86-87, nr 1-3, s. 648-656Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
    Abstract [en]

    The present paper summarizes the main features of the hollow cathode discharges generated by a radio frequency (r.f.) instead of a d.c. held. The pressure of gas inside the hollow cathode is almost independent on the reactor pressure, which allows to gene

  • 49.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Atmospheric Plasma – Yes or No2006Inngår i: Bulletin, Publication of the Vacuum Coating Industry, Summer 2006, 42-48., s. 42-48Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
  • 50.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the Cold Atmospheric Plasma Hybrid Source2005Inngår i: J Vac Sci Technol, Vol. A23, nr 4, s. 933-937Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
123 1 - 50 of 121
RefereraExporteraLink til resultatlisten
Permanent link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf