uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
1234567 101 - 150 av 1825
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 101.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of gas and cathode material on the r.f. hollow cathode reactive PVD1999Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 121, s. 704-708Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The process of generation of the radio frequency (r.f.) hollow cathode discharge was examined for different gases and different materials of the r.f. electrode. The delivered r.f. power range used in the experiments enabled analysis of the hollow cathode

  • 102.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of magnetic field configuration on the performance of hollow cathode linear arc discharge (LAD) source1998Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-98, San Diego, Paper G.3-7, 1998Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 103.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of the gas and cathode material on the rf hollow cathode performance1998Ingår i: Paper at The 193rd Meet.of the Elecctrochem. Soc., San Diego, May, Ext.abstract 203. Proc. Vol. 98-1.The Electrochem. Soc., Inc, 1998, s. 203-Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 104.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma2000Ingår i: Appl Phys Letters, Vol. 76, nr 3, s. 285-287Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 105.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma cource for gas treatment2002Ingår i: Catalysis Today, Vol. 72, s. 237-241Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 106.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma in monoatomic and molecular gases2002Ingår i: Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, 202nd Meeting of The Electrochemical Society, Salt Lake City, October, abstract No. 458, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 107.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Fused hollow cathode cold atmospheric plasma source2001Ingår i: 1st Symposium on Cold atmospheric Plasma Technologies, The Electrochemical Society Spring Meeting, Washington, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 108.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode atmospheric pressure plasma sources for surface treatment2002Ingår i: , 8th International Conference on Plasma Surfaced Engineering - PSE 2002, Garmisch-Partenkirchen, September, Keynote lecture K8, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 109.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2003Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 163-164, s. 649-653Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 110.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode cold atmospheric plasma sources with monoatomic and molecular gases2002Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-02, April, San Diego, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 111.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Ingår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 112.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Plasma Cleaning and Surface Activation2002Ingår i: Proceedings of the 45th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Orlando, April 2002, www.svc.org., Proc, 2002, s. 109-112Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 113.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillstånndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Ingår i: Invited paper at Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-01, San Diego, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 114.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode plasma sources for large area surface treatment2001Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 146-147, s. 486-490Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 115.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Abnormal High Rate Deposition of TiN Films by the Radio Frequency Plasma Jet System1995Ingår i: J Electrochem Soc, ISSN 0013-4651, Vol. 142, nr 3, s. 883-887Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Radio frequency Ar and Ar + N-2 plasma jets generated in a hollow electrode terminated by a small size Ti nozzle were used for deposition of Ti and TiN films. The regime with low content of reactive gas resulted in an extreme enhancement of TiN deposition

  • 116.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the linear arc discharge (LAD) source for film deposition1997Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 94-5, nr 1-3, s. 578-582Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The linear arc discharge (LAD) source is a parallel plate hollow cathode with a magnetic field perpendicular to the plates near the outlet slit of the cathode. The hollers cathode discharge is generated by radio frequency (rf) power and is confined mainly

  • 117.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Metastable assisted deposition of TiN films1995Ingår i: Appl Phys Lett, ISSN 0003-6951, Vol. 67, nr 11, s. 1521-1523Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    An excess heat from an exothermic reaction of metastable Ar (4(3)P(0)) and Ar (4(3)P(2)) atoms with N-2 molecules at low contents of N-2 in Ar was found to be responsible for an enhanced thermionic emission, an enhanced production of Ti target vapor, an i

  • 118.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    The radio frequency hollow cathode plasma jet arc for the film deposition1996Ingår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, ISSN 0734-2101, Vol. 14, nr 6, s. 3033-3038Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) are discharge is studied for an activated reactive deposition of TiN films. The presence of low content of nitrogen in argon enables reaching the are regime at lower powers than in pure argon. T

  • 119.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Titanium nitride deposited by high rate rf hollow cathode plasma jet reactive process1995Ingår i: VACUUM, ISSN 0042-207X, Vol. 46, nr 12, s. 1433-1438Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A radio frequency hollow cathode plasma jet (RPJ or RHCPJ) with a tubular Ti nozzle as a source of metal particles was used for the reactive deposition of TiN. The results of optical emission spectroscopy (OES), temperature measurements at the active zone

  • 120.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Nender, Claes
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Linear arc discharge (LAD): A new type of hollow cathode plasma source1996Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 87-8, nr 1-3, s. 377-380Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A novel linearly scalable source for low pressure plasma processing is described. The source is based on a parallel plate hot hollow cathode in a focusing magnetic field which allows generation of a linearly uniform plasma in a gas admitted into the slit

  • 121.
    Barankova, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Carlsson, Patrik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Nender, Claes
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hysteresis effects in the sputtering process using two reactive gases1995Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, Vol. 260, nr 2, s. 181-186Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The reactive sputtering process involving two reactive gases has been investigated. Sputtering titanium in the presence of oxygen and nitrogen in argon was studied by means of optical emission and mass spectrometries. The experiments reveal the mechanism

  • 122.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Radio frequency hollow cathodes for the plasma processing technology1996Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 86-87, nr 1-3, s. 648-656Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The present paper summarizes the main features of the hollow cathode discharges generated by a radio frequency (r.f.) instead of a d.c. held. The pressure of gas inside the hollow cathode is almost independent on the reactor pressure, which allows to gene

  • 123.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Comparison of the radio frequency hollow cathode to the microwave antenna discharge for plasma processing2001Ingår i: J Appl Phys, Vol. 90, nr 4, s. 1703-1709Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 124.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly oriented coatings at low substrate temperatures2002Ingår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 125.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly Oriented Coatings at Low Substrate Temperatures2001Ingår i: Proceedings of the 44th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Philadelphia, April, Proc., 2001, s. 125-129Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 126.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode PVD of nitride and oxide films at low substrate temperature2001Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 146-147, s. 463-468Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 127.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Processing in Afterglows and Decaying Plasmas2001Ingår i: Vacuum & Coating Technology, Vol. Sept, s. 46-56Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 128.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Radio frequency hollow cathode source for large area cold atmospheric plasma applications2000Ingår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 133-134, s. 522-527Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 129.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    A new method for film deposition in the discharge of target metal vapour1995Ingår i: Surface and Coatings Technology, ISSN 0257-8972, Vol. 72, nr 3, s. 174-180Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A new method for generation of a discharge in its own metal vapour of an r.f.-excited electrode is described. The method is based on the r.f. plasma jet (RPJ) system utilizing a small size r.f. nozzle in which a hollow cathode-type discharge is generated.

  • 130.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Linear arc discharge source for large area plasma processing1997Ingår i: Appl Phys Lett, Vol. 70, s. 577-579Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 131.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Microwave surfatron system for diamond film depositions1995Ingår i: International Symposium on Plasma Chemistry – ISPC 12, Minneapolis, USA, August 21-25, Paper no PK 1, 1995Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 132.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Microwave surfatron system for plasma processing1996Ingår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, ISSN 0734-2101, Vol. 14, nr 2, s. 474-477Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 133.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    PECVD by hollow cathodes1998Ingår i: Proceedings of the 41st Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Boston 1998, ISSN 0737-5921, Paper P-1, Proc., 1998, s. 315-320Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 134.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Thin film processing by the radio frequency hollow cathodes1997Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 97, nr 1-3, s. 723-728Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The main features of the radio frequency (RF) hollow cathodes for thin film processing are summarized. The utilization of cylindrical RF hollow cathodes in both the plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) and the physical vapour deposition (PVD

  • 135.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Performance of Radio Frequency Hollow Cathodes at Low Gas Pressures2003Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 163-164, s. 654-658Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 136.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Performance of Radio Frequency Hollow Cathodes at Low Gas Pressures2002Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-02, April 2002, San Diego, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 137.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Nyberg, Tomas
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Diamond deposition in a microwave electrode discharge at reduced pressures1997Ingår i: DIAMOND AND RELATED MATERIALS, ISSN 0925-9635, Vol. 6, nr 2-4, s. 224-229Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Diamond deposition on healed Si-substrates was studied under microwave discharge generated by an electrode-antenna either in a ''point-to-plane'' arrangement or in a ''parallel-plane'' arrangement at gas pressures of 1-15 Torr in a mixture of hydrogen wit

  • 138.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y
    Features of a nonequilibrium microwave electrode discharge1998Ingår i: PLASMA PHYSICS REPORTS, ISSN 1063-780X, Vol. 24, nr 10, s. 891-895Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The luminosity structure of a microwave discharge excited in hydrogen and hydrogen-methane mixtures (1-8% methane) between the rod electrode and the plane surface in a cylindrical metallic discharge chamber at a pressure of 1-15 torr and an input power of

  • 139.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y
    Spherical Microwave Electrode Discharge. Phenomenology and results of probe measurements1998Ingår i: Technical Physics, Vol. 43, nr 12, s. 1428-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 140.
    Beccu, R
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Hållfasthetslära. Hållfasthetslära.
    Wu, CM
    Lundberg, B
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Hållfasthetslära. Hållfasthetslära.
    Reflection and transmission of the energy of transient elastic extensional waves in a bent bar1996Ingår i: JOURNAL OF SOUND AND VIBRATION, ISSN 0022-460X, Vol. 191, nr 2, s. 261-272Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Reflection and transmission of the energy of a transient elastic extensional wave at a sharp or smooth bend of a bar are studied theoretically and experimentally, with the principal aim being to validate the model used by Wu and Lundberg in a parallel stu

  • 141.
    Beckman, O
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    Anders Celsius2001Ingår i: Elementa, Vol. 84, s. 174-180Artikel i tidskrift (Övrigt vetenskapligt)
  • 142.
    Beckman, O
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    Anders Celsius – en noggrann experimentalfysiker2000Ingår i: Kosmos, Vol. 77, s. 19-35Artikel i tidskrift (Övrigt vetenskapligt)
  • 143.
    Beckman, O
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    En av våra största vetenskapsmän, Anders Celsius, 300 år2001Ingår i: SGU information, s. 8-11Artikel i tidskrift (Övrigt vetenskapligt)
  • 144.
    Beckman, O
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    Samuel Klingenstierna and the achromatic lens I: Correspondence with John Dollond2002Ingår i: J. Antique Telescope Society, nr 22, s. 9-15Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 145.
    Beckman, O
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    Samuel Klingenstierna and the achromatic lens II: Correction of spherical and chromatic aberration2002Ingår i: J. Antique Telescope Society, nr 23, s. 3-8Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 146.
    Beckman, O
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. SOLID STATE PHYSICS.
    Moberg, A
    The Celsius thermometer2000Ingår i: Weather, Vol. 55, s. 392-394Artikel i tidskrift (Övrigt vetenskapligt)
  • 147.
    Beckman, Olof
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap.
    Ångström, far och son1997Bok (Övrigt vetenskapligt)
  • 148.
    Bejhed, Johan
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fysiska sektionen, Institutionen för fysik och materialvetenskap, Materialvetenskap. ÅSTC.
    Lindberg, Ulf
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fysiska sektionen, Institutionen för fysik och materialvetenskap, Materialvetenskap. Fasta tillståndets elektronik.
    Stenmark, Lars
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fysiska sektionen, Institutionen för fysik och materialvetenskap, Materialvetenskap. ÅSTC.
    A miniturized Xenon Feed System for Electric Propulsion2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 149.
    Bekesi, J
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap.
    Vajtai, R
    Simon, P
    Kish, L.B.
    Subpicosecond Excimer Laser Ablation of Thick Gold Films of Ultra-Fine Particles Generated by Gas Deposition Technique1999Ingår i: Appl.Phys.A, Vol. 69, s. S385-S387Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 150.
    Bekesi, J
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap.
    Vajtai, R
    Simon, P
    Kiss, LB
    Subpicosecond excimer laser ablation of thick gold films of ultra-fine particles generated by a gas deposition technique1999Ingår i: APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, ISSN 0947-8396, Vol. 69, s. S385-S387Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The results of UV laser ablation of gold nanoparticle films on glass substrates using femtosecond pulses are presented. Films of ultra-fine gold particles were prepared by an inert gas evaporation and deposition technique, resulting in a well-defined log-

1234567 101 - 150 av 1825
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf