uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
123 101 - 121 av 121
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 101.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Non-thermal atmospheric plasma: Sources, processes and applications, INVITED PAPER2011Ingår i: Encontro de Física, Foz do Iguacu, Brazil, Foz do Iguacu, Brazil, 2011Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 102.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Optimal Dimensions of the Atmospheric Hollow Cathodes2008Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 103.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Optimization and performance of atmospheric Fused Hollow Cathodes2013Ingår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 87, s. 128-131Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Experimental results on the atmospheric hollow cathode plasma generation and performance, using a special configuration with tunable wall separations, are presented. The influence of the gas and type of the power used for generation on the optimum size of the cathode slit is investigated. The experimental results are in agreement with the hollow cathode model. The plasma source/plasma reactor design is of utmost importance for control of plasma-chemical kinetics. An example of the atmospheric hollow cathode plasma application for the NOx conversion is given. The energy consumption and plasma characteristics are discussed.

  • 104.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bergkvist, Mikael
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Waters, Rafael
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Grabbe, Mårten
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Leijon, Mats
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Coatings for Renewable Energy: Paper JAPT-142009Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 105.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Cold Atmospheric Plasma in Nitrogen and Air Generated by the Hybrid Plasma Source2006Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, ISSN 0734-2101, E-ISSN 1520-8559, Vol. 24, nr 4, s. 1410-1413Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Generation of long plumes of cold atmospheric plasma in nitrogen and air has been successfully performed by the hybrid hollow electrode activated discharge (H-HEAD) source. The source with a simple cylindrical electrode terminated by a gas nozzle combines the microwave antenna plasma with the hollow cathode plasma generated inside the gas nozzle by pulsed dc power. The H-HEAD source is capable of generating up to 10 cm long plumes in air at microwave powers below 500 W and at air flow rates as low as 100 sccm (standard cubic centimeter per minute). The corresponding flow rates in the nitrogen plasma are even less than 80 sccm. The discharges in air and nitrogen have similar shapes and are comparable with the corresponding plasma columns in argon. A comparison of the optical emission spectra of the plasma in nitrogen and air is presented. The temperatures generated on steel substrates by interaction with nitrogen and air plasma columns at different microwaves and dc powers are compared with the corresponding effects in argon plasma.

  • 106.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Söderström, Daniel
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Characterization of Hybrid Atmospheric Plasma in Air and Nitrogen2006Ingår i: SVC, Society of Vacuum Coaters: 49th Annual Technical Conference Proceedings, 2006, s. 41-43Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 107. Brandenburg, Ronny
    et al.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Plasma-based depollution of exhausts: principles, state of the art and future prospects2011Ingår i: Monitoring, Control and Effects of Air Pollution / [ed] Andrzej G. Chmielewski, InTech , 2011Kapitel i bok, del av antologi (Refereegranskat)
  • 108.
    Bárdos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold atmospheric plasma: Sources, processes, and applications2010Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 518, nr 23, s. 6705-6713Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Atmospheric pressure gas discharge plasmas, especially those operated at energy non-equilibrium and low gas temperatures, have recently become a subject of great interest for a wide variety of technologies including surface treatment and thin-film deposition. A driving force for these developments is the avoidance of expensive equipment required for competing vacuum-based plasma technologies. Although there are many applications where non-equilibrium (cold) plasma at atmospheric and higher pressures represents a substantial advantage, there are also a number of applications where low-pressure plasmas simply cannot be replaced due to specific properties and limitations of the atmospheric plasma and related equipment. In this critical review, the primary principles and characteristics of the cold atmospheric plasma and differences from vacuum-based plasma processes are described and discussed to provide a better understanding of the capabilities and limits of emerging atmospheric plasma technologies.

  • 109.
    Bárdos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma Treatment of Inner Surfaces of Pipes2012Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 110.
    Bárdos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma Treatment of Steel Buoys for Wave Energy Converters2011Ingår i: Plasma Processes and Polymers, ISSN 1612-8850, E-ISSN 1612-8869, Vol. 8, nr 7, s. 658-663Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Steel sheets used for ocean buoys in the linear wave energy converters have been treated by cold atmospheric plasmas in Ar, Ne, and the wet air. The contact angle has decreased from about 48 degrees at an untreated surface to a minimum of about 248, depending on the plasma and the treatment time. This corresponds to an increase of the surface energy from about 57 to 69 mN/m. Comparison of the XPS spectra before and after plasma treatment confirmed important role of the plasma activated oxygen. The hydrophilicity of treated surfaces deteriorates within about 120 min. Immediate painting of treated surfaces has lead to considerable better paint adhesion than on untreated surfaces. The plasma treatment of buoys before painting is, therefore, expected to improve their corrosion resistance and lifetime.

  • 111.
    Bárdos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Surface Treatment of Energy Conversion Device Components by Cold atmospheric Plasma: Paper SE+PS-MoM32010Ingår i: AVS 57th Int. Symposium, Albuquerque, New Mexico, 2010Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 112.
    Bárdoš, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, L-E.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik.
    Effect of substrate material and bias on properties of TiN films deposited in the hybrid plasma reactor2006Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, ISSN 0734-2101, E-ISSN 1520-8559, Vol. 24, nr 4, s. 1655-1659Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 113.
    Gustavsson, Lars-Erik
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Properties of TiN Films Produced in Hollow Cathode and Microwave ECR Hybrid Plasma System2005Ingår i: E-MRS Spring Meeting, Strasbourg, May-June 2005, Paper K-VII.3., 2005Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 114.
    Gustavsson, Lars-Erik
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    PVD of Films on Ferromagnetic Substrates in Magnetized Plasma Systems2005Ingår i: Paper E-8, Proceedings of the 48th Annual Tech. Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Denver, April 2005, 2005, s. p. 27-30Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 115.
    Gustavsson, Lars-Erik
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
    Bárdoš, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Fasta tillståndets elektronik.
    Some properties of TiN films produced in hollow cathode and microwave ECR hybrid plasma system2006Ingår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 201, nr 3-4, s. 1464-1468Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Properties of TiN films grown in a hybrid system combining linear magnetized hollow cathode with Ti plates and an electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma were studied. The films of 0.5-1.6 μm in thickness were deposited on both high-speed steel (HSS) and Si substrates. High quality films with dense microstructure and high hardness were obtained. Microstructure was studied by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) was used for study of the surface morphology and the film-substrate interface, and mechanical properties were evaluated by nano indentation. It has been found that the interaction of the microwave power with both the substrate and the growing film can affect the growth regime and consequently the film properties. Formation of interfacial film defects is more frequent on Si substrates than on steel due to an absorption of the microwave power in the Si substrate during deposition. This effect was confirmed by temperature measurements. The TiN film properties were compared with reference samples deposited by conventional methods. The films obtained by the hybrid source reach quality comparable or even better than the best commercial TiN films.

  • 116.
    Mordente, Paulo
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Linear Hollow Cathode Arc for Deposition of CrN Fims2011Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 117.
    Silins, Kaspars
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Protective amorphous carbon coatings on glass substrates2017Ingår i: AIP Advances, ISSN 2158-3226, E-ISSN 2158-3226, Vol. 7, nr 11, artikel-id 115206Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Thick amorphous carbon films were deposited by the Magnets-in-Motion (M-M) rf linear hollow cathode at varying acetylene contents in Ar in a hybrid PVD/PE-CVD process directly on glass substrates. The hollow cathode plates manufactured from graphite were used as the PVD target. The measurements show that the films can reach thickness of up to 50 mu m at deposition rates of up to 2.5 mu m/min. Scratch test measurements confirm that well adhering films several mu m thick can be achieved at C2H2 contents of up to 0.5%.

  • 118.
    Söderström, Daniel
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Time evolution of the space-charge sheath in an rf hollow cathode2007Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 119.
    Söderström, Daniel
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära och åskforskning.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    On Dimensions of Atmospheric-Pressure Hollow Cathodes2007Ingår i: IEEE Transactions on Plasma Science, ISSN 0093-3813, E-ISSN 1939-9375, Vol. 35, nr 3, s. 522-526Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The hollow cathode is known as a source of high-density plasmas. This property is due to the hollow-cathode effect (HCE), which can be explained by the oscillations of fast electrons between repelling potentials of opposing space-charge sheaths. At atmospheric pressure, one should be able to create an HCE by adjusting the dimension of the hollow cathode. Experiments show that the dimensions could be as large as 500, so that the sheath thickness may be on the order of 100. Theoretical models of the atmospheric-pressure sheaths based on the conventional Child-Langmuir approach give the sheath thicknesses on the order of 10, which contradicts the experiments. We introduce here a new model which takes into account three groups of electrons: slow, fast, and secondary. By adding a group of fast and secondary electrons, we show that the sheath thickness increases as compared with only slow electrons present.

  • 120.
    Söderström, Daniel
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Space-charge sheaths in atmospheric pressure hollow cathodes2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 121.
    Söderström, Daniel
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Time evolution of the space-charge sheath in an rf hollow cathode2008Ingår i: Journal of Physics, Conference Series, ISSN 1742-6588, E-ISSN 1742-6596, Vol. 100, nr 6, s. 062020-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
123 101 - 121 av 121
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf