uu.seUppsala universitets publikationer
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
123 51 - 100 av 121
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 51.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Characterization of the Cold Atmospheric Plasma Hybrid Source2004Ingår i: American Vacuum Society 51st Int Meeting, Anaheim, November, 2004, s. Paper PS-ThM4Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 52.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Comparison of Pulsed DC and RF Hollow Cathode Depositions of CrN2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 53.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Comparison of the radio frequency hollow cathode to the microwave antenna discharge for plasma processing2001Ingår i: J Appl Phys, Vol. 90, nr 4, s. 1703-1709Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 54.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly oriented coatings at low substrate temperatures2002Ingår i: Vacuum & Coating Technology NovemberArtikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 55.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Highly Oriented Coatings at Low Substrate Temperatures2001Ingår i: Proceedings of the 44th Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Philadelphia, April, Proc., 2001, s. 125-129Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 56.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow Cathode Based Plasma Sources and Applications2005Ingår i: Proceedings of the 15th Symp. on Applications and Plasma Processes and 3rd EU-Japan Joint Symp. on Plasma Processing (SAPP XV), Podbanské, Slovakia, January 2005, IL01, 2005, s. p. 19-22Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 57.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Hollow cathode PVD of nitride and oxide films at low substrate temperature2001Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 146-147, s. 463-468Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 58.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New hybrid source with microwave and hollow cathode plasma2003Ingår i: 46th Annual Tech Conf of the Society of Vacuum Coaters (SVC), San Francisco, May, Paper E-8, Proc., 2003, s. 104-107Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 59.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    New microwave and hollow cathode hybrid plasma sources2003Ingår i: Int Conf Metal Coat Thin Films, ICMCTF´03, San Diego, April, 2003, s. Paper G1/TS1-1Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 60.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Plasma Processes at Atmospheric and Low Pressures2007Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 61.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Plasma processes at atmospheric and low pressures2008Ingår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 83, nr 3, s. 522-527Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    In the last few decades there has been an intense development in non-equilibrium ("cold") plasma surface processing systems at atmospheric pressure. This new trend is stimulated mainly to decrease equipment costs by avoiding expensive pumping systems of conventional low-pressure plasma devices. This work summarizes physical and practical limitations where atmospheric plasmas cannot compete with low-pressure plasma and vice-versa. As the processing conditions for atmospheric plasma are rather different from reduced pressure systems in many cases these conditions may increase final equipment costs substantially. In this work we briefly review the main principles, advantages and drawbacks of atmospheric plasma for a better understanding of the capabilities and limitations of the atmospheric plasma processing technology compared with conventional low-pressure plasma processing. 2008 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  • 62.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Processing in Afterglows and Decaying Plasmas2001Ingår i: Vacuum & Coating Technology, Vol. Sept, s. 46-56Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 63.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    PVD of hard films inside narrow holes and pipes2003Ingår i: The 46th Annual Tech Conf of the Society of Vacuum Coaters (SVC), San Francisco, May, Paper H-5, Proc., 2003, s. 154-154Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 64.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Radio frequency hollow cathode source for large area cold atmospheric plasma applications2000Ingår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 133-134, s. 522-527Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 65.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    A new method for film deposition in the discharge of target metal vapour1995Ingår i: Surface and Coatings Technology, ISSN 0257-8972, Vol. 72, nr 3, s. 174-180Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A new method for generation of a discharge in its own metal vapour of an r.f.-excited electrode is described. The method is based on the r.f. plasma jet (RPJ) system utilizing a small size r.f. nozzle in which a hollow cathode-type discharge is generated.

  • 66.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Linear arc discharge source for large area plasma processing1997Ingår i: Appl Phys Lett, Vol. 70, s. 577-579Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 67.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Microwave surfatron system for diamond film depositions1995Ingår i: International Symposium on Plasma Chemistry – ISPC 12, Minneapolis, USA, August 21-25, Paper no PK 1, 1995Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 68.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Microwave surfatron system for plasma processing1996Ingår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, ISSN 0734-2101, Vol. 14, nr 2, s. 474-477Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 69.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    PECVD by hollow cathodes1998Ingår i: Proceedings of the 41st Annual Tech.Conf. of the Society of Vacuum Coaters (SVC), Boston 1998, ISSN 0737-5921, Paper P-1, Proc., 1998, s. 315-320Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 70.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Thin film processing by the radio frequency hollow cathodes1997Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, ISSN 0257-8972, Vol. 97, nr 1-3, s. 723-728Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The main features of the radio frequency (RF) hollow cathodes for thin film processing are summarized. The utilization of cylindrical RF hollow cathodes in both the plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) and the physical vapour deposition (PVD

  • 71.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of Substrate Material and Bias on Properties of TiN Films Deposited in the Hybrid Plasma Reactor2005Ingår i: AVS 52nd Int. Meeting, Boston, October-November 2005, Paper PS+TF-ThA7, 2005Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 72.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Teer, D G
    New microwave and hollow cathode hybrid plasma sources2004Ingår i: Surface and Coatings Technology, Vol. 177-178, s. 651-656Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 73.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Performance of Radio Frequency Hollow Cathodes at Low Gas Pressures2003Ingår i: Surf Coat Technol, Vol. 163-164, s. 654-658Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 74.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Performance of Radio Frequency Hollow Cathodes at Low Gas Pressures2002Ingår i: Int.Conf.Metall.Coat.&Thin Films - ICMCTF-02, April 2002, San Diego, 2002Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 75.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y A
    Nyberg, Tomas
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Berg, Sören
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Diamond deposition in a microwave electrode discharge at reduced pressures1997Ingår i: DIAMOND AND RELATED MATERIALS, ISSN 0925-9635, Vol. 6, nr 2-4, s. 224-229Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Diamond deposition on healed Si-substrates was studied under microwave discharge generated by an electrode-antenna either in a ''point-to-plane'' arrangement or in a ''parallel-plane'' arrangement at gas pressures of 1-15 Torr in a mixture of hydrogen wit

  • 76.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Baránková, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Bardos, A.
    BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden..
    Production of Hydrogen-Rich Synthesis Gas by Pulsed Atmospheric Plasma Submerged in Mixture of Water with Ethanol2017Ingår i: Plasma chemistry and plasma processing, ISSN 0272-4324, E-ISSN 1572-8986, Vol. 37, nr 1, s. 115-123Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Hydrogen-rich synthesis gas was produced by pulsed dc plasma submerged into ethanol-water mixtures using an original system with a coaxial geometry. The ignition of the discharge is immediately followed by production of hydrogen and after a short time necessary for filling the outlet tubing a flame can be ignited. No auxiliary gas was used for the reforming process. The synthesis gas containing up to 60% of hydrogen was formed, at the outflow rate of 250 sccm at the average power as low as 10 W. The hydrogen production efficiency corresponds to 12 kWh/kg H-2.

  • 77.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of ferromagnetic substrates on the film growth in magnetized plasma systems2005Ingår i: Int. Conf. Metall. Coat.&Thin Films - ICMCTF-05, San Diego, May 2005, Paper G3-11., 2005Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 78.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Gustavsson, Lars-Erik
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Barankova, Hana
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper. Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Effect of ferromagnetic substrates on the film growth in magnetized plasma systems2005Ingår i: Surf Coat Techn, Vol. 200, s. 1862-1866Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 79.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y
    Features of a nonequilibrium microwave electrode discharge1998Ingår i: PLASMA PHYSICS REPORTS, ISSN 1063-780X, Vol. 24, nr 10, s. 891-895Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The luminosity structure of a microwave discharge excited in hydrogen and hydrogen-methane mixtures (1-8% methane) between the rod electrode and the plane surface in a cylindrical metallic discharge chamber at a pressure of 1-15 torr and an input power of

  • 80.
    Bardos, Ladislav
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för materialvetenskap. Institutionen för teknikvetenskaper, Elektronik. Fasta tillståndets elektronik.
    Lebedev, Y
    Spherical Microwave Electrode Discharge. Phenomenology and results of probe measurements1998Ingår i: Technical Physics, Vol. 43, nr 12, s. 1428-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 81.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Hollow cathode and hybrid atmospheric plasma sources2008Ingår i: Pure and Applied Chemistry, ISSN 0033-4545, E-ISSN 1365-3075, Vol. 80, nr 9, s. 1931-1937Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Generation and features of the radio frequency (RF) hollow cathode discharge (HCD) are compared for the atmospheric and moderate pressures. The atmospheric-pressure plasma systems, fused hollow cathode (FHC) and hybrid hollow electrode-activated discharge (H-HEAD), are described. Examples of applications where both FHC and H-HEAD have already been employed are given, and potentials for new processes are discussed.

  • 82.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära. BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden.
    Bardos, Adela
    BB Plasma Design AB, Ullerakersvagen 64, SE-75643 Uppsala, Sweden.
    Non-Conventional Atmospheric Pressure Plasma Sources for Production of Hydrogen2018Ingår i: MRS ADVANCES, ISSN 2059-8521, Vol. 3, nr 18, s. 921-929Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The atmospheric pressure plasma sources with a coaxial geometry were used for generation of the radio frequency, microwave and pulsed dc plasmas inside water and aqueous solutions. Pulsed dc plasma generated in ethanol-water mixtures leads to production of the hydrogen-rich synthesis gas with hydrogen content up to 65 % The effect of various plasma generation regimes on the performance of plasma, on the hydrogen production efficiency and on the hydrogen-rich synthesis gas production was examined. A role of the composition of the ethanol-water mixture was investigated.

  • 83.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bardos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Silins, Kaspars
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    DLC coatings prepared by hollow cathodes at moderate pressure2015Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

    DLC coatings were prepared using the rf powered cylindrical and linear hollow cathodes. The deposition process is hybrid, combining both the PE CVD and PVD. A cylindrical graphite nozzle and graphite plates were used as targets. The gas mixture used in the deposition process was argon with acetylene.

     

    Compared to e.g. magnetron sputtering, the optimum content of acetylene is lower. The effect of the acetylene content in the gas mixture as well as rf power on the deposition rate and properties of the coatings are evaluated.

     

    The geometrical effect is studied, the cylindrical hollow cathode and the linear hollow cathode are compared and the transfer of the optimized process from the cylindrical into the linear hollow cathode is discussed.

  • 84.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bàrdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Atmospheric pressure plasma conversion of CO2 to solid deposits2015Ingår i: Results in Physics, ISSN 2211-3797, Vol. 5, s. 257-258Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Fused Hollow Cathode (FHC) with aerodynamic stabilization was used for the gas conversion processes. During the conversion of NO into NO2 in air mixtures, the CO2 reduction occurs, without forming gaseous CO. In these processes brownish glassy solid deposits are formed in the plasma region. The deposits were analyzed by scanning electron microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction.

  • 85.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Atmospheric Pressure Plasma Sources and Processing2009Ingår i: Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings / [ed] Peter M. Martin, Oxford: Elsevier, William Andrew , 2009, 3, s. 865-880Kapitel i bok, del av antologi (Övrig (populärvetenskap, debatt, mm))
  • 86.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma in Liquids2012Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 87.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma Inside Water2012Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 88.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma Processing of Inner Surfaces: INVITED PAPER2012Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 89.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Cold Atmospheric Plasma Treatment of Energy System Components: INVITED PAPER2010Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 90.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Convergion of Nitrogen Oxides by the Atmospheric Hollow Cathode Discharges: INVITED PAPER2010Ingår i: IEEE 37th International Conference on Plasma Science, Norfolk, Virginia, USA, 2010Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 91.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Conversion of Nitrogen and Carbon Oxides by the Atmospheric Hollow Cathode Discharges2012Ingår i: IEEE Transactions on Plasma Science, ISSN 0093-3813, E-ISSN 1939-9375, Vol. 40, nr 5, s. 1324-1328Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    We have successfully tested the fused hollow cathode with aerodynamic stabilization as a 100% oxidation catalyst in conversion of NOx in air mixtures. Plasma chemical kinetics and the processing window width are controlled by plasma characteristics. Results show that, besides the plasma source design itself, the material of the electrodes plays a crucial role. It was found that, by using graphite electrodes, a 100% removal of NO from the air mixtures is possible without necessity of adding hydrocarbons. This paper presents results of oxygen screening, discusses the mechanisms of the process, and reports also on the CO2 reduction in some discharge regimes.

  • 92.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Design and Applications of the Atmospheric Pressure Hollow Cathodes2008Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 93.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Design and Performance of the Hollow Cathode Cold Atmospheric Plasma Sources2008Ingår i: Jahrbuch Oberflächentechnik 2008-BAND 64 / [ed] R. Suchentrunk, Bad Saulgau: Eugen G. Leuze Verlag KG , 2008Kapitel i bok, del av antologi (Refereegranskat)
  • 94.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Effect of the Electrode Material in the Atmospheric Plasma Abatement of Nitrogen Oxides: Paper SE -MoA32009Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 95.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Effect of the Electrode Material on the Atmospheric Plasma Conversion of NO in Air Mixtures2009Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 96.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Effect of the electrode material on the atmospheric plasma conversion of NO in air mixtures2010Ingår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 84, nr 12, s. 1385-1388Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Non-thermal atmospheric pressure plasma is widely used for conversion of hazardous gases. Results from different laboratories confirm importance of energy non-equilibrium in the plasma where dominant energy carriers are electrons and a dominant chemistry is based on formation and interactions of radicals. Because of rather high electric fields required for generation and sustaining of air discharges at atmospheric pressure many plasma systems were found rather to create a lot of NO instead of removing it. A widely supported way to clean NO and NO2 from air mixtures is a plasma assisted catalytic reduction where the cold plasma is combined with the solid-state catalyst. In an ideal case the plasma acts as an oxidation catalyst where an atomic oxygen from air oxidizes NO to NO2 and the solid-state catalysts are then capable to convert all NO2 to N-2 and O-2. In most cases it is also necessary to involve auxiliary gases, e.g., propylene, to make the process efficient enough. This work introduces an original cold plasma system based on atmospheric hollow cathodes generated by a nanopulse DC power with controllable voltage and pulse frequency. The system was optimized in both the geometry and the applied power. However, the material of electrodes was found to be the most important factor affecting the plasma performance and consequently the chemical kinetics. A 100% conversion of NO to NO2 was achieved with a graphite electrode, without using any auxiliary gas and without catalyst. Plasma performance and conversion efficiency are compared for several electrode materials.

  • 97.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Environmental Applications of the Atmospheric Pressure Plasma Sources: Paper JAPT-112009Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 98.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Hollow Cathode and Hybrid Plasma Processing at Low and High Pressures2008Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 99.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Hollow Cathode High Density Plasma PVD of Cr and CrN films2008Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 100.
    Baránková, Hana
    et al.
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    Bárdos, Ladislav
    Uppsala universitet, Teknisk-naturvetenskapliga vetenskapsområdet, Tekniska sektionen, Institutionen för teknikvetenskaper, Elektricitetslära.
    New plasma sources for atmospheric pressure applications2008Konferensbidrag (Refereegranskat)
123 51 - 100 av 121
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf